Litografia su chip: l'High-NA EUV per la prima volta in produzione

ASML e Intel hanno annunciato la prima implementazione industriale di sistemi di litografia High-NA EUV, segnando una pietra miliare nella produzione di semiconduttori. 5 nanometri a 9 nanometri. Questo progresso fa parte degli sforzi in corso di Intel per migliorare le sue capacità di produzione attraverso tecniche avanzate di fotolitografia. Il nuovo sistema, noto come Twinscan Exe:5200B, viene utilizzato da Intel Foundry per esporre alcuni strati di alcuni processori Core Ultra-300, denominati Panther Lake. La società ha ricualificato il suo ultimo processo di produzione, 18A, con High-NA EUV. Tuttavia, i modelli specifici che trarranno beneficio da questa nuova tecnica rimangono non divulgati.

L'obiettivo è quello di gettare le basi per un'implementazione più ampia, assicurando che il pieno potenziale della tecnologia sia realizzato. Intel Foundry ha espresso soddisfazione per la prima applicazione pratica di High-NA EUV, evidenziando il suo significato nel far progredire i loro processi di produzione.

Mentre Intel procede con una transizione più rapida verso l'EUV ad alta NA, il leader del settore TSMC sembra procedere con più cautela. L'alto costo dei sistemi EUV ad alta NA, circa 350 milioni di euro per unità, raddoppia il prezzo rispetto ai sistemi Low-NA esistenti. Inoltre, l'utilizzo di queste macchine avanzate richiede spese più elevate. Il vicepresidente senior di TSMC, Kevin Zhang, ha ripetutamente espresso la sua sorpresa per i risultati ottenibili con esposizioni multiple utilizzando il Low-NA EUV. Di conseguenza, TSMC prevede di continuare a utilizzare il Low-NA EUV almeno fino al processo di fabbricazione A12 nel 2029. La strategia di Intel riflette un cambiamento verso una maggiore dipendenza da High-NA EUV per le generazioni future.

Con il prossimo processo di produzione 14A che inizierà le preparazioni entro il 2027, l'azienda mira a sfruttare i vantaggi dell'High-NA EUV in modo più ampio. Ciò include la riduzione del numero di passaggi di esposizione necessari per le strutture più fini, migliorando così l'efficienza e la resa. Mentre l'attuale produzione di matrici di calcolo per Panther Lake si basa ancora in gran parte su vecchi sistemi EUV, l'introduzione di High-NA EUV segna una direzione chiara per la roadmap di produzione a lungo termine di Intel.

A mano a mano che produttori come Intel avanzano con questa innovazione, le implicazioni più ampie per l'industria e il panorama competitivo diventeranno sempre più evidenti.