ASML ha annunciato piani per aumentare significativamente la sua produzione di sistemi di litografia nei prossimi due anni e mezzo. L'azienda olandese mira a produrre più del doppio della produzione attuale, rafforzando le dichiarazioni precedenti che non diventerà un collo di bottiglia nell'industria globale dei semiconduttori. I principali produttori di chip e memoria come TSMC, Samsung, Intel, SK Hynix, Micron e molti altri si affidano fortemente alla tecnologia ASML. 5 nanometri. Questi sistemi sono essenziali per creare le strutture più fini all'interno dei chip. TSMC e Samsung li utilizzano dalla loro generazione a 7 nanometri, mentre Intel lo ha fatto dal suo processo a 4 nanometri.
Al contrario, uno sguardo alla Cina mette in evidenza l'impatto della mancanza di sistemi EUV: la fonderia di chip cinese SMIC e il gigante tecnologico Huawei si trovano ad affrontare sfide nella produzione di chip ad alto rendimento a 7 nanometri, che potrebbero peggiorare man mano che diventano necessarie strutture più fini. Attualmente, ASML può produrre circa 65 sistemi EUV all'anno. Entro il 2027, l'azienda prevede di aumentare questo numero del 30%, raggiungendo circa 85 unità all'anno. Questo si riferisce all'attuale generazione di sistemi EUV con apertura numerica inferiore. Ogni sistema costa tra 170 milioni e 200 milioni di euro. Per raggiungere questo livello di produzione, i ricavi annuali dell'azienda dovrebbero aumentare di almeno tre miliardi di euro.
L'ASML sta valutando se un altro aumento del 30 per cento potrebbe essere possibile nel 2028. Inoltre, l'ASML prevede di aumentare la produzione di sistemi di litografia a ultravioletti profondi (DUV) del 30 per cento nel prossimo anno. Sulla base della cifra attuale di 130 unità, questo porterebbe il totale a 169. Un ulteriore aumento del 30 per cento è in esame per il 2028. La luce DUV opera a una lunghezza d'onda di 193 nanometri ed è utilizzata nei chip moderni per collegare i transistor attraverso strati metallici. L'ASML si concentra sui sistemi DUV di immersione, che impiegano un mezzo liquido tra la maschera di esposizione e il wafer per migliorare la qualità dell'esposizione. Queste macchine partono da circa 60 milioni di euro ciascuna. 3 miliardi di euro.
Per raggiungere questi obiettivi di produzione, ASML deve collaborare con aziende tedesche come Zeiss per lenti e specchi, e Trumpf per i laser. Questa cooperazione complica gli sforzi di scalabilità. Già, le prestazioni finanziarie di ASML hanno superato le aspettative. 3 miliardi di euro, superando le previsioni iniziali. Di conseguenza, la società ha rivisto le sue prospettive di ricavi annuali in rialzo da 36 a 40 miliardi di euro a un range di 43 a 45 miliardi di euro. 7 miliardi di euro di ricavi. 9 miliardi di euro per il secondo trimestre, che rappresenta un leggero aumento di circa il sei per cento rispetto al trimestre precedente. 3 miliardi di euro.
Il prezzo delle azioni della società è leggermente aumentato in seguito all'annuncio di questi risultati, mostrando un piccolo guadagno di poco più del 3%.
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heise onlineIndipendenteCentroFattualità 95Obiettività 90l’altro ieriASML, un'impresa olandese, ha progettato di produrre entro 2,5 anni un numero di sistemi litografici nettamente superiore a quello attuale. L'azienda sottolinea che non è destinata a diventare il collo di bottiglia dell'industria dei semiconduttori. Essa è l'unica azienda al mondo che produce un sistema litografico EUV con una lunghezza d'onda di 13,5 nm, indispensabile per la produzione delle più raffinate strutture di chip. In Cina, la mancanza di un sistema EUV ha portato a difficoltà nella produzione di chip a 7 nm. L'impianto ASML, che ha progettato di aumentare la produzione della sua attuale generazione EUV del 30% in un fatturato di almeno 3,4 miliardi di euro, ha anche progettato di aumentare la produzione dei suoi sistemi DU del 30%.
Lettura del bias (Centro): La relazione si concentra sugli aspetti tecnici ed economici dell'espansione dell'ASML, senza porre un accento politico o ideologico.
Perché fattualità (95): The article provides specific details about ASML’s production plans, including numbers like 65 EUV systems per year currently and projected increases by 2027 and 2028. It mentions the companies dependent on ASML and explains the technical differences between EUV and DUV lithography. These facts alig
Perché obiettività (90): The article presents information in a largely neutral manner, focusing on ASML’s production goals and technological advantages. While it highlights ASML’s dominance and the challenges faced by Chinese manufacturers due to lack of EUV access, it does so without overtly biased language or explicit adv
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