ON
← Volver al feed
ASML quiere construir muchos más sistemas de litografía
Germany🏛️ PolíticaCentroanteayer

ASML quiere construir muchos más sistemas de litografía

ASML, una empresa holandesa, planea, dentro de 2,5 años, producir claramente más sistemas de litografía que hasta ahora. La empresa subraya que no es el cuello de botella de la industria de semiconductores. Es la única empresa en el mundo que fabrica sistemas de litografía EUV con una longitud de onda de 13,5 nm, que son indispensables para la fabricación de las mejores estructuras de chips. En China, la falta de sistemas EUV hace que sea difícil fabricar chips de 7 nm. La planta ASML planea aumentar la producción de su actual generación EUV en un 30%, lo que supondría un aumento del volumen de ventas de al menos 3,4 mil millones de euros. Además, la empresa desea aumentar la producción de sus sistemas DUV en un 30%.

ASML ha anunciado planes para aumentar significativamente su producción de sistemas de litografía en los próximos dos años y medio. La compañía holandesa tiene como objetivo fabricar más del doble de la producción actual, reforzando las declaraciones anteriores de que no se convertirá en un cuello de botella en la industria global de semiconductores. Los principales fabricantes de chips y memorias como TSMC, Samsung, Intel, SK Hynix, Micron y muchos otros dependen en gran medida de la tecnología de ASML. 5 nanómetros. Estos sistemas son esenciales para crear las estructuras más finas dentro de los chips. TSMC y Samsung los han estado utilizando desde su generación de 7 nanómetros, mientras que Intel lo ha hecho desde su proceso de 4 nanómetros.

En contraste, una mirada a China destaca el impacto de la falta de sistemas EUV: la fundición de chips china SMIC y el gigante tecnológico Huawei enfrentan desafíos para producir chips de alto rendimiento de 7 nanómetros, que podrían empeorar a medida que se hagan necesarias estructuras más finas. Actualmente, ASML puede producir aproximadamente 65 sistemas EUV por año. Para 2027, la compañía espera aumentar este número en un 30 por ciento, alcanzando alrededor de 85 unidades anuales. Esto se refiere a la generación actual de sistemas EUV con menor apertura numérica. Cada sistema cuesta entre 170 millones y 200 millones de euros. Para lograr este nivel de producción, los ingresos anuales de la compañía necesitarían aumentar al menos en tres mil millones de euros.

A partir de ahora, ASML está evaluando si otro aumento del 30 por ciento podría ser posible en 2028. Además, ASML planea aumentar la producción de sistemas de litografía ultravioleta profunda (DUV) en un 30 por ciento en el próximo año. Basado en la cifra actual de 130 unidades, esto llevaría el total a 169. Un aumento del 30 por ciento adicional está bajo consideración para 2028. La luz DUV opera a una longitud de onda de 193 nanómetros y se utiliza en chips modernos para conectar transistores a través de capas metálicas. ASML se centra en sistemas DUV de inmersión, que emplean un medio líquido entre la máscara de exposición y la oblea para mejorar la calidad de exposición. Estas máquinas comienzan en alrededor de 60 millones de euros cada una. 3 mil millones de euros.

Para cumplir con estos objetivos de producción, ASML debe colaborar con empresas alemanas como Zeiss para lentes y espejos, y Trumpf para láseres. Esta cooperación complica los esfuerzos de escala. Ya, el desempeño financiero de ASML ha superado las expectativas. 3 mil millones de euros, superando las previsiones iniciales. En consecuencia, la compañía revisó su perspectiva de ingresos anuales al alza de 36 a 40 mil millones de euros a un rango de 43 a 45 mil millones de euros. 7 mil millones de euros en ingresos. 9 mil millones de euros para el segundo trimestre, lo que representa un ligero aumento de alrededor del seis por ciento en comparación con el trimestre anterior. 3 mil millones de euros.

El precio de las acciones de la empresa ha aumentado ligeramente tras el anuncio de estos resultados, mostrando una pequeña ganancia de poco más del tres por ciento.

Cómo lo cubrió cada lado

El mismo suceso, agrupado por la inclinación política de los medios que lo cubren.

Cómo lo cubrió cada lado

Apoya noticias independientes y conscientes del sesgo y desbloquea el pulso social, el voto de la comunidad y tu feed Para ti personalizado.

Hazte suscriptor

Cobertura en el mundo

El mismo suceso según se informó en otros países.

Cobertura en el mundo

Apoya noticias independientes y conscientes del sesgo y desbloquea el pulso social, el voto de la comunidad y tu feed Para ti personalizado.

Hazte suscriptor

Verificación de afirmaciones

Las principales afirmaciones fácticas y cuántas fuentes las respaldan o las rebaten.

Verificación de afirmaciones

Apoya noticias independientes y conscientes del sesgo y desbloquea el pulso social, el voto de la comunidad y tu feed Para ti personalizado.

Hazte suscriptor

1 informaciones

heise online logoheise onlineIndependienteCentroVeracidad 95Objetividad 90anteayer
ASML quiere construir muchos más sistemas de litografía

ASML, una empresa holandesa, planea, dentro de 2,5 años, producir claramente más sistemas de litografía que hasta ahora. La empresa subraya que no es el cuello de botella de la industria de semiconductores. Es la única empresa en el mundo que fabrica sistemas de litografía EUV con una longitud de onda de 13,5 nm, que son indispensables para la fabricación de las mejores estructuras de chips. En China, la falta de sistemas EUV hace que sea difícil fabricar chips de 7 nm. La planta ASML planea aumentar la producción de su actual generación EUV en un 30%, lo que supondría un aumento del volumen de ventas de al menos 3,4 mil millones de euros. Además, la empresa desea aumentar la producción de sus sistemas DUV en un 30%.

Lectura del sesgo (Centro): El informe se centra en los aspectos técnicos y económicos de la expansión de la ASML, sin poner énfasis político o ideológico.

Por qué veracidad (95): The article provides specific details about ASML’s production plans, including numbers like 65 EUV systems per year currently and projected increases by 2027 and 2028. It mentions the companies dependent on ASML and explains the technical differences between EUV and DUV lithography. These facts alig

Por qué objetividad (90): The article presents information in a largely neutral manner, focusing on ASML’s production goals and technological advantages. While it highlights ASML’s dominance and the challenges faced by Chinese manufacturers due to lack of EUV access, it does so without overtly biased language or explicit adv

Mantengamos las noticias honestas.

ObjectiveNews se financia con los lectores y no tiene anuncios: te mostramos el sesgo en lugar de ocultarlo. Apoya el periodismo independiente por 5 €/mes.

Hazte suscriptor

Historias relacionadas