HKI ricercatori cinesi hanno raggiunto il successo iniziale nello sviluppo di nodi di elaborazione di semiconduttori più piccoli di 3 nm utilizzando la vecchia tecnologia di litografia a ultravioletti profondi (DUV), piuttosto che gli strumenti più avanzati a ultravioletti estremi (EUV) prodotti da ASML.
Lettura del bias (Centro): L'articolo presenta gli sviluppi tecnici nella produzione di semiconduttori senza favorire apertamente alcuna prospettiva politica, si concentra sui progressi tecnologici e sui fattori geopolitici come le sanzioni statunitensi, ma non mostra un chiaro pregiudizio ideologico nel suo inquadramento o nell'approvvigionamento.
