KRSamsung Electronics i ASML, nizozemski proizvođač opreme za čipove, najavili su proširenje svog dugoročnog partnerstva usmjerenog na unapređenje tehnologije čipova visoke rezolucije. Kolaboracija se usredotočuje na litografiju High-NA EUV (ekstremno ultraljubičasta) i rješenja fotomaske sljedeće generacije, koja su ključna za proizvodnju naprednih čipova AI. Samsung će pomoći u razvoju nove platforme fotomaske od 12 inča za proizvodnju High-NA EUV, s ciljem povećanja učinkovitosti i podržavanja složenijih procesa oblikovanja uzoraka. Ovaj razvoj usklađen je s rastućim zahtjevima industrije za manjim, snažnijim poluprovodnicima vođenim napretkom u umjetnoj inteligenciji.
Procjena pristranosti (Sredina): U članku se raspravlja o tehničkom partnerstvu između dvije tvrtke usmjerene na napredak u proizvodnji poluprovodnika.
