HKLes chercheurs chinois ont obtenu un succès initial dans le développement de nœuds de traitement de semi-conducteurs de moins de 3 nm en utilisant l'ancienne technologie de lithographie aux ultraviolets profonds (DUV), plutôt que les outils ultra-violets extrêmes (EUV) plus avancés produits par ASML.
Lecture du biais (Centre): L'article présente les développements techniques dans la fabrication de semi-conducteurs sans favoriser ouvertement aucune perspective politique. Il se concentre sur les avancées technologiques et les facteurs géopolitiques tels que les sanctions américaines, mais ne présente pas de biais idéologique clair dans son encadrement ou son approvisionnement.
