JapanEl artículo informa que Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) planea comenzar la producción en masa utilizando la máquina de litografía de alta apertura numérica (alta NA) ultravioleta extrema (EUV) de ASML para 2030. Samsung Electronics pretende adoptar la tecnología ya en 2028, mientras que Intel ya ha comenzado la producción en masa con la nueva máquina. Las máquinas de alta NA EUV se describen como las herramientas de fabricación de chips más avanzadas disponibles, destacando su importancia en la competencia de la industria global de semiconductores, particularmente en el desarrollo de chips de próxima generación para aplicaciones de inteligencia artificial.
Lectura del sesgo (Centro): El artículo presenta información sobre los avances tecnológicos y las estrategias corporativas en la industria de los semiconductores sin favorecer abiertamente ninguna ideología política en particular.
