Chinesische Forscher haben erste Erfolge bei der Entwicklung von Halbleiterverarbeitungsknoten kleiner als 3 nm mit älterer Tief-Ultraviolett-Lithographie-Technologie (DUV) erzielt, anstatt mit den fortgeschritteneren Extrem-Ultraviolett-Tools (EUV), die von ASML hergestellt werden.
Chinesische Forscher haben erste Erfolge bei der Entwicklung von Halbleiterverarbeitungsknoten kleiner als 3 nm mit älterer Tief-Ultraviolett-Lithographie-Technologie (DUV) erzielt, anstatt mit den fortgeschritteneren Extrem-Ultraviolett-Tools (EUV), die von ASML hergestellt werden.
Tendenz-Einschätzung (Mitte): Der Artikel präsentiert technische Entwicklungen in der Halbleiterherstellung, ohne offen eine politische Perspektive zu bevorzugen.
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HK